金属硅粉杂质去除

发布者: 发布时间:2015/6/19 14:25:36 阅读:次 【字体:

   金属硅粉是一般是采用优质工业硅加工而成。广泛用于航天、航空、冶金、电子、化学、耐火材料等工业。后来知道了硅是半导体后,人们开始利用硅来制作各种器件。但是金属硅粉杂质比较多,而硅器件需要很纯的晶体硅,晶体硅的提纯技术经过了不少周折,形成了现在的CZ直拉单晶法和悬浮区熔法。

金属硅粉杂质

 

  目前,可以得到纯度为12N(99.9999999999%)的硅材料,但通常,只要能够到10N,就可以满足大部分集成电路的需要了。如果硅的纯度不够,做不了半导体器件,不过完全的纯硅虽然是半导体,但因为载流子浓度太低,所以也没有什么实际作用。

  金属硅粉中最常见的杂质是磷,世宗硅业告诉大家一种除去金属硅粉中的磷杂质的方法,如下:

  1、将金属硅粉置于感应炉中,在氮气气氛下于1460~1500℃熔化;

  2、将体积比为1.2:1~1:1.5的二氧化硅和碳酸锂于1440~1460℃在另一个坩埚中熔化;

  3、将第二步中熔化好的二氧化硅-碳酸锂混合物直接倒入第一步的硅液中,30分钟后停炉;冷却后,硅与渣自然分离;

  5、用1:6的HF酸与HCl对第四步中得到的破碎硅进行浸泡15~30小时,一次可有效除磷85%以上,同时其它金属杂质含量低于200ppm;

  6、重复步骤一~五,进行二次造渣和酸洗;

  7、将得到的硅进行重熔和定向凝固,金属硅中杂质磷含量可降低到0.1ppm以下,其他金属含量总和小于0.1ppm。

  金属硅粉中杂质问题已经写完,如果还想了解金属硅的检验方法金属硅的作用等相关资料点击链接。

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